税 目：84862022
商品名称：专用或主要用于制造半导体器件或集成电路用的物理气相沉积装置（PVD）
商品描述：
子目8486.2022专用或主要用于制造半导体器件或集成电路用的物理气相沉积装置（PVD）,是一种利用物理方式（如蒸发或溅射现象）在硅片表面将某物质凝结成固态薄膜的设备。物理气相淀积主要有两种淀积方法：蒸镀法和溅射法。其中溅射法是目前大规模集成电路制造过程中应用最广的一种淀积方式。其作用和化学气相沉积（CVD）基本相同，其内部腔体的结构和尺寸决定了此类设备具有相当的专用性。
